viernes, 30 de octubre de 2015

Factores formadores


El clima es uno de los factores más importantes, puesto que la precipitación favorece la translocación del material de una parte del perfil a zonas inferiores y manteniendo el Porcentaje de Saturación de Bases (PSB) en sus niveles adecuados para pertenecer a este orden. Así pues la Precipitación tiene que ser mucho mayor a la evapotranspiración.
Respecto a la vegetación podemos decir que los Ultisoles se desarrollan sobre zonas boscosas de coníferas, además de aparecer en las sabanas. Por otro lado destacar que en cuanto al material paretal, este tiene que poseer un bajo contenido en cationes, por lo que materiales ricos en bases no son el material sobre el que se desarrollan estos suelos. El tiempo, realmente estos suelos precisan de un tiempo no demasiado elevado para el desarrollo del perfil, teniendo en cuenta que los procesos formadores determinaran la rapidez de desarrollo de los horizontes en el perfil.

Procesos formadores


En los Ultisoles, la eluviación y la iluviación son los procesos más importantes en el desarrollo del perfil, dándose el caso de acumulación de arcillas en horizontes profundos del perfil, y produciéndose una pérdida de arcillas en los horizontes superficiales. El proceso de eluviación produce la movilización y pérdida de materiales, que se desarrolla en los horizontes superficiales, mientras que el proceso de iluviación representa la ganancia de sustancias en los horizontes, siendo el agua el medio de transporte.
Entre los materiales susceptibles a translocación mediante eluviación / iluviación se encuentran: las arcillas, los sesquióxidos y la materia orgánica. En este sentido, En estos suelos la acumulación, descomposición y humificación de la materia orgánica en la superficie del suelo está limitada por la formación de complejos orgánico-minerales.

Por último en los Ultisoles pueden darse también procesos de queluviación de Al y Fe, junto con materia orgánica, de las zonas superficiales y su acumulación en las zonas profundas del perfil.

No hay comentarios:

Publicar un comentario